CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

产品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。

产品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。

公司主营快速退火炉 马佛炉管式电阻炉/热处理电阻炉/高温箱式电阻炉中环电阻炉/干燥箱/恒温干燥箱/鼓风干燥箱/电热鼓风干燥箱/真空干燥箱/远红外干燥箱/湿热实验箱/高温电热鼓风干燥箱/大型电热鼓风干燥箱/水箱/电热水箱/恒温水箱/电热恒温水箱/万用电炉/封闭万用电炉/封闭电炉/CVD炉/cvd电炉/rtp炉/快速退火炉/立式电炉/管炉/石磨希电炉/RTP/快速激活炉/粉体电炉/快速热氧化炉

CVD系统系周期作业，供企业实验室，大专院校，科研院所等单位选用，设备为用户提供具体真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术，碳纤维等新材料新工艺领域。