滑动式CVD设备_1200℃_单/双/多温区 此款设备是一套化学气相沉积生长系统，可包含加热系统、控温系统、滑动装置、质量气体流量控制、真空控制系统、预加热系统等模块，根据工艺要求多模块自由组合，并可扩展升级配置，节约成本。适用于多种经典化学气相沉积工艺。

1200℃,CVD设备,化学气相沉积炉,实验室电炉，CVD集成系统是一套完备的集成控制的CVD系统，控制部分采用了中环自主研发的实验电炉 A10智能控制系统，使得操作更加简便，可实现沉积生长过程自动化集成控制，重复精度高，操作简单，提高效率，降低成本。适用于经典化学气相沉积工艺。

化学气相沉积炉由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

化学气相沉积设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

CVD设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。